DELTA®-MS 20 Verticale

Problème

Les dalles de sol, composées de béton poreux, recueillent l'humidité et les moisissures. Afin de protéger les fondations d'un bâtiment et d'assurer sa longévité, il est nécessaire de contrôler correctement l'humidité. Une couche de fondation protégera la fondation et empêchera le béton de tirer l'eau de la terre, ce qui permettrait à l'humidité de s'infiltrer à travers la dalle. 

Solution

Le DELTA®-MS 20 est une feuille alvéolée résistante à la compression, durable, fabriquée à partir de polyéthylène haute densité spécial (PEHD). Il offre une protection résistante et à long terme pour une fondation sèche en permanence. 

Ce produit est une version épaisse du DELTA®-MS avec des goujons profonds de 20 mm. Il est utilisé lorsqu'une capacité de drainage supplémentaire est requise, comme sur des structures plus profondes ou lorsqu'un débit plus important est requis. Le DELTA®-MS 20 peut également être utilisé comme « creuset de cavités » pour de nombreux types de nouvelles constructions.

DELTA-MS20_Vertical
Détails du produit
Avantages du produit
  • Membrane cloutée composée de PEHD 
  • Les goujons de 20 mm créent un espace d'air à la base de la fondation, créant un chemin de drainage libre, permettant à toute eau qui dépasse la feuille de plastique alvéolée de naviguer librement vers le drain de la fondation
  • Capacité de drainage élevée
  • Imperméable à l'eau et aux vapeurs d'eau
  • Imperméable aux acides et autres agents
  • Robuste, résistant et durable - a une durée de vie prévue de plus de 50 ans
  • Contrairement à un revêtement, le produit comble les fissures de toutes tailles, ignore les points d'endommagement et dévie l'eau 

Données techniques

Accessoires Connexes

  • Ruban DELTA® MULTI-BANDE pour WRB

    Ruban DELTA® MULTI-BANDE pour WRB

    Le DELTA®-MULTI BAND est un ruban polyvalent à très forte adhérence. Il est très résistant au vieillissement et convient à un usage interne et externe. Composé d'un adhésif acrylique pur, le produit est extrêmement flexible.